真空腔室Ф246×228mm,304優質不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優成
真空規全量程真空規,上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統PLC+觸摸屏智能控制系統1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調,旋轉:0-20r/min可調,可加熱至300℃
膜厚監控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
樣品臺通常指的是用于展示或測試物品的臺面,廣泛應用于實驗室、展覽、商店等場所。在實驗室中,樣品臺可以用來放置化學試劑或生物樣本,以便進行觀察和實驗。在展覽中,樣品臺用于展示產品,以吸引觀眾的注意。商店中的樣品臺則用于展示商品,方便顧客查看和選擇。
如果你有更具體的問題或者需要了解樣品臺的某個方面,請告訴我!
小型磁控濺射鍍膜機是一種常用于材料表面處理的設備,它的主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、絕緣體或半導體薄膜,廣泛應用于電子、光學和材料科學等領域。
2. **均勻性**:通過磁控濺射技術,能夠實現良好的膜厚均勻性和致密性,有助于提高薄膜性能。
3. **可調性**:用戶可以根據不同的需求調整沉積參數,如功率、氣壓和氣體成分,以獲得的沉積效果。
4. **多種材料選擇**:支持多種靶材的使用,能夠沉積不同材料的薄膜,如鋁、銅、氮化硅等。
5. **快速成膜**:小型磁控濺射鍍膜機相對快速,適合小批量實驗或研發。
6. **低溫沉積**:允許在較低溫度下進行沉積,有助于減少基材的熱負荷,適合對熱敏感材料的處理。
7. **簡單操作**:由于其結構緊湊且操作相對簡單,適合實驗室和小規模生產使用。
這些功能使得小型磁控濺射鍍膜機在科研、工業和教學等多個領域中得到廣泛應用。

桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種用于薄膜沉積的設備,廣泛應用于半導體、光電、光學及材料科學等領域。以下是桌面型磁控濺射鍍膜儀的一些主要特點:
1. **緊湊設計**:桌面型設計占用空間小,適合實驗室環境,有利于提高實驗室的使用效率。
2. **高均勻性**:通過磁場增強濺射過程,提高薄膜的均勻性和致密性,能夠在較大面積上達到一致的膜厚。
3. **可控性**:支持控制沉積參數,如氣壓、濺射功率和沉積時間,便于實現不同材料和膜厚的調節。
4. **多種靶材選擇**:支持多種材料的靶材,能夠實現金屬、氧化物、氮化物等不同類型薄膜的沉積。
5. **低溫沉積**:相較于其他鍍膜技術,磁控濺射通常可在較低溫度下進行,有助于保護基材和改善膜的性能。
6. **清潔環境**:通常配備有真空系統,能夠在相對潔凈的環境下進行沉積,減少污染。
7. **自動化程度高**:一些型號支持自動化控制和監測,便于實驗操作和數據記錄,提高了實驗效率和重復性。
8. **易于維護**:桌面型設備結構相對簡單,便于日常維護和保養,降低了運行成本。
這些特點使得桌面型磁控濺射鍍膜儀在科研和工業應用中越來越受到歡迎。

小型磁控濺射鍍膜機具有以下幾個特點:
1. **占用空間小**:小型設計使其適合在實驗室或小型生產環境中使用,便于安裝和操作。
2. **高沉積速率**:磁控濺射技術通過磁場增強離子化率,從而提高沉積速率,適合快速制備薄膜。
3. **沉積均勻性好**:由于磁場的應用,能夠實現較為均勻的薄膜沉積,提高膜層的質量和一致性。
4. **適用材料廣泛**:能夠濺射多種金屬、合金及絕緣材料,適應不同的應用需求。
5. **可控性強**:可以控制沉積厚度、沉積速率和氣氛,便于實驗和生產中的參數調整。
6. **能**:磁控濺射技術相對傳統濺射技術能量損耗較小,效率較高,有助于降低生產成本。
7. **多靶配置**:一些小型鍍膜機支持多靶配置,能夠同時沉積不同材料,適應復雜的薄膜制備需求。
8. **易于維護**:小型設備一般結構簡單,便于操作和維護,適合實驗室的日常使用。
9. **環境友好**:多數小型磁控濺射鍍膜機可以使用低氣壓條件下工作,減少揮發性有機物等污染。
這些特點使得小型磁控濺射鍍膜機在科研、電子、光學及功能性涂層等領域具有廣泛的應用前景。

離子濺射儀是一種用于材料表面分析和處理的設備,主要功能包括:
1. **材料沉積**:可以用于在基材表面上沉積薄膜,常見于半導體、光電子器件和表面涂層的制造。
2. **表面分析**:通過濺射過程,可以分析材料的成分和結構,常用于質譜分析和表面分析技術,如時間飛行質譜(TOF-MS)。
3. **清潔和去除涂層**:可以去除材料表面的污染物或舊涂層,為后續處理做好準備。
4. **再結晶和表面改性**:可以通過離子轟擊改變材料的表面狀態,如增加薄膜的粘附力、改善光學性能等。
5. **刻蝕**:在微電子工藝中,用于刻蝕特定區域,形成所需的圖案和結構。
6. **離子 implantation**:將離子注入材料中,以改變其電學、光學或機械性質。
離子濺射儀在材料科學、微電子、納米技術等領域有著廣泛的應用。
桌面型磁控濺射鍍膜儀廣泛應用于多個領域,主要包括:
1. **電子元件制造**:在半導體器件、傳感器、光電器件的生產中,用于沉積薄膜。
2. **光學器件**:用于光學涂層的制備,如鏡頭、光學濾光片等,以優化光的傳輸和反射特性。
3. **太陽能電池**:在光伏材料的生產中,沉積導電和光吸收層。
4. **防腐涂層**:用于金屬表面的保護性涂層,提升耐磨性和防腐蝕性。
5. **功能性薄膜**:例如,電池、電容器及其他儲能器件中的功能薄膜。
6. **研究和開發**:高校和科研機構用于材料科學、物理、化學等領域的研究,探索新材料和新技術。
7. **生物醫用材料**:用于制備生物相容性涂層,如器械表面的生物處理。
由于其高精度和可控性,桌面型磁控濺射鍍膜儀在上述領域均有著重要的應用價值。
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