真空腔室Ф246×260mm,304優質不銹鋼
分子泵國產FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規全量程真空規
蒸發源電阻蒸發源(兼容金屬與有機蒸發)3組,可切換使用
蒸發電源2000W直流蒸發電源1臺,供3組蒸發源切換使用
控制系統PLC+觸摸屏智能控制系統1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
蒸發舟是一種用于物相沉積(PVD)技術的設備,廣泛應用于薄膜材料的制備。在這種過程中,固體材料(如金屬或化合物)被加熱到高溫,使其蒸發,并在真空中沉積到基材表面,從而形成薄膜。
當材料在蒸發舟中加熱到其蒸發溫度時,會產生顆粒或原子,這些顆粒會隨蒸氣流動,終在冷卻的基材上凝結,形成所需的薄膜。蒸發舟的主要優點是可以在相對低的溫度下進行沉積,同時能夠獲得較高的沉積速率和良好的膜質量。
在蒸發過程中產生的顆粒可以是單原子層、分子或小顆粒,具體取決于蒸發的材料和條件。這些顆粒在沉積過程中會根據其動能和溫度條件,形成不同的厚度和結構。
需要注意的是,蒸發的效率和膜的性質與蒸發舟的材料、溫度、壓力、基材的選擇等多種因素密切相關。
熱蒸發鍍膜機是一種常用于薄膜沉積的設備,其主要特點包括:
1. **高純度鍍膜**:由于采用高溫加熱源,能有效蒸發材料,沉積出的薄膜通常具有較高的純度。
2. **良好的均勻性**:通過合理設計源與基片之間的距離,可以實現較均勻的膜層厚度。
3. **適用范圍廣**:可以用于多種材料的沉積,包括金屬、半導體及一些絕緣材料。
4. **沉積速率可調**:通過調節加熱溫度和蒸發源的功率,可以實現不同沉積速率,滿足不同應用需求。
5. **操作簡便**:熱蒸發鍍膜機的操作相對簡單,適合實驗室及工業生產使用。
6. **適配性強**:可以與其他設備如真空系統、光學測厚儀等配合,提升沉積效果和膜層質量。
7. **成本效益高**:相較于其他鍍膜技術,熱蒸發鍍膜機的設備投資和運行成本通常較低。
8. **膜層控制能力強**:可以通過調整蒸發時間和材料供應來實現膜厚的控制。
總的來說,熱蒸發鍍膜機以其優良的膜層質量和較為簡單的操作,在科研和工業應用中廣泛使用。

蒸發舟(或稱為蒸發小舟)在化學和材料科學中主要用于薄膜的制備和物質的蒸發沉積。它的基本功能包括:
1. **材料蒸發**:蒸發舟可以將固態材料加熱到其蒸發溫度,使其轉變為氣態,通過真空或惰性氣體環境將蒸發出的顆粒沉積在基材上。
2. **薄膜沉積**:通過控制蒸發過程可以在基材上形成均勻、薄的薄膜,這對于制作電子器件、光學涂層等重要。
3. **材料選擇性**:蒸發舟可以用于多種材料(如金屬、氧化物、聚合物等)的蒸發,適應不同的應用需求。
4. **控制**:通過調整加熱功率和蒸發時間,可以控制沉積的厚度和質量。
5. **提高純度**:在真空環境中蒸發,可以減少雜質及氧化反應,得到較高純度的沉積材料。
6. **應用廣泛**:蒸發舟被廣泛應用于半導體制造、光學器件、太陽能電池、傳感器等領域。
通過這些功能,蒸發舟在材料的制備和研究中起到了關鍵的作用。

手套箱一體機是一種結合了手套箱和其他實驗設備的綜合性實驗裝置,主要用于處理在惰性氣氛(如氮氣、氦氣等)下進行的實驗或操作。其功能通常包括:
1. **惰性氣體保護**:手套箱內可以充入惰性氣體,避免實驗材料與空氣中的水分和氧氣反應,保護樣品的純凈性。
2. **手套操作**:設備通常配有手套,可以在不暴露于外部環境的情況下進行實驗操作,如取樣、裝置組裝等。
3. **樣品存儲**:手套箱內部可以用于存放敏感材料和試劑,確保其不受外界污染。
4. **氣體監控**:一些手套箱一體機配備氣體監控系統,可以實時監測箱內環境,確保氣體濃度和成分的穩定。
5. **溫度和濕度控制**:可以調節和控制箱內的溫度和濕度,為實驗提供理想環境。
6. **接口擴展**:某些手套箱一體機設計有多種接口,可以與其他實驗設備聯動,如真空泵、反應釜等。
7. **數據記錄與控制**:部分設備能夠連接計算機或其他控制系統,實現數據記錄和實驗過程的自動化監控。
手套箱一體機廣泛應用于材料科學、化學反應、制藥、生物實驗等領域,尤其在對氧敏感或濕敏性的材料處理上具有重要意義。

熱蒸發鍍膜機是一種用于物相沉積(PVD)技術的設備,主要功能包括:
1. **膜層制備**:通過加熱蒸發材料,使其轉變為氣態,并在基材表面沉積形成薄膜。可以用于制備金屬、絕緣材料或半導體薄膜。
2. **膜層厚度控制**:通過控制蒸發率和沉積時間,可以調節膜層的厚度。
3. **材料種類選擇**:可以使用多種材料進行蒸發,如金、銀、鋁、氧化物等,以實現不同的光學或電氣性能。
4. **真空環境控制**:在真空環境中進行鍍膜,降低空氣中的雜質對膜層質量的影響,提高膜層的致密性和均勻性。
5. **基材適應性**:可用于多種基材的鍍膜,包括玻璃、塑料、金屬等。
6. **功能性薄膜的制備**:可以制備不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、導電膜、光電膜等,廣泛應用于光電子器件、顯示器、傳感器等領域。
7. **多層膜制備**:可實現多層膜的疊加,制造復雜結構以滿足特定的光學或電氣特性。
這些功能使得熱蒸發鍍膜機在材料科學、電子、光學等領域有著廣泛的應用。
小型熱蒸發鍍膜機廣泛應用于多個領域,主要適用范圍包括:
1. **光學元件**:用于制作光學薄膜,如反射鏡、抗反射膜、分光膜等,廣泛應用于鏡頭、光學儀器等。
2. **電子器件**:在半導體器件、電路板等制造中,鍍膜可以用于形成導電層、絕緣層及其他功能性薄膜。
3. **太陽能電池**:用于太陽能電池的鍍膜,提高光電轉換效率。
4. **顯示器件**:應用于LCD、OLED等顯示屏的薄膜制作,提高顯示效果和耐用性。
5. **裝飾性涂層**:用于制造裝飾性涂層,如金屬鍍層、彩色薄膜等,增強產品的美觀性。
6. **傳感器**:用于傳感器表面的功能性涂層,提高靈敏度和選擇性。
7. **研究和實驗室**:在材料科學和物理等研究中,用于制備薄膜材料,探索其性質和應用。
由于小型熱蒸發鍍膜機具有操作簡單、靈活性高等優點,適合于小批量生產和科研試驗,因此在以上領域得到了廣泛使用。
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